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产品类型

旋转钼/钼合金靶

应用领域 广泛用于光学玻璃，触摸屏玻璃膜系， 导电玻璃，TFT-LCD，半导体电子
主要成分 Mo
成型工艺 烧结
密度 ≥9.7g/cm3
纯度 3N5

旋转铝/铝合金靶

应用领域 广泛用于光学玻璃，触摸屏玻璃膜系， 导电玻璃，TFT-LCD，半导体电子
主要成分 AI
成型工艺 熔炼
密度 ≥2.7g/cm3
纯度 5N

旋转氧化铌靶

应用领域 广泛用于光学玻璃，触摸屏玻璃膜系， 导电玻璃，TFT-LCD，半导体电子
主要成分 Nb2Ox
成型工艺 喷涂
密度 ≥4.3g/cm3%
纯度 3N5

旋转硅靶

应用领域 制作SiO2膜，用于光学玻璃，触摸屏、 半导体、平面显示
主要成分 Si
成型工艺 喷涂
密度 ≥2.23g/cm3
纯度 3N5

旋转铜靶

应用领域 制作Cu膜，用于装饰玻璃镜膜， TFT-LCD，半导体电子
主要成分 Cu
成型工艺 熔炼
密度 ≥8.9g/cm3
纯度 4N

旋转氧化钛靶

应用领域 制作TiO2膜，用于光学玻璃，TFT- LCD，半导体电子
主要成分 TiOx
成型工艺 喷涂
密度 ≥4.1g/cm3
纯度 2N7

旋转二氧化硅靶

应用领域 广泛用于Low-E玻璃膜系，光学玻璃，触 摸屏玻璃膜系， TFT-LCD，半导体电子
主要成分 SiO2
成型工艺 熔炼
密度 ≥2.2g/cm3
纯度 4N

平面钼/钼合金靶

应用领域 广泛用于光学玻璃，触摸屏玻璃膜系， 导电玻璃，TFT-LCD，半导体电子
主要成分 Mo
成型工艺 烧结
密度 ≥9.7g/cm3
纯度 3N5

平面铝/铝合金靶

应用领域 广泛用于光学玻璃，触摸屏玻璃膜系， 导电玻璃，TFT-LCD，半导体电子
主要成分 AI
成型工艺 熔炼
密度 ≥2.7g/cm3
纯度 5N

平面钪/钪合金靶

应用领域 广泛用于航天飞行器、空客A320、 交通设备、体育器械
主要成分 ScAl
成型工艺 熔炼
密度 ≥99%
纯度 4N

平面铬靶

应用领域 广泛用于各类装饰膜，建筑汽车】 玻璃膜，光刻铬膜
主要成分 Cr
成型工艺 烧结
密度 ≥7.15g/cm3
纯度 2N5-4N

平面铌靶

应用领域 广泛用于光学玻璃，触摸屏，半导体
主要成分 Nb
成型工艺 熔炼
密度 ≥8.5g/cm
纯度 3N

平面氧化铌靶

应用领域 广泛用于Low-E玻璃膜系，光学玻璃 ，触摸屏玻璃膜系，导电玻璃，TFT- LCD，半导体电子
主要成分 Nb2Ox
成型工艺 烧结
密度 ≥4.5g/cm3
纯度 4N

平面硅靶

应用领域 广泛用于Low-E玻璃膜系，光学玻璃，触 摸屏玻璃膜系， TFT-LCD，半导体电子
主要成分 Si
成型工艺 直拉
密度 ≥2.33g/cm3
纯度 5N

平面二氧化硅靶

应用领域 广泛用于Low-E玻璃膜系，光学玻璃，触 摸屏玻璃膜系， TFT-LCD，半导体电子
主要成分 SiO2
成型工艺 熔炼
密度 ≥80%
纯度 4N

平面二氧化锡靶

应用领域 广泛用于Low-E玻璃膜系，光学玻璃， 触摸屏玻璃膜系， TFT-LCD，半导体电子
主要成分 SnO2
成型工艺 烧结
密度 ≥80%
纯度 4N

平面AZO靶

应用领域 广泛用于Low-E玻璃膜系，光学玻璃， 触摸屏玻璃膜系， TFT-LCD，半导体电子
主要成分 AZO
成型工艺 烧结
密度 ≥5.5g/cm3
纯度 3N5

平面锆靶

应用领域 广泛用于卫浴五金, 建筑五金, 汽车五金, 机壳, 装饰配件等，有高硬度, 高亮度, 抗 蚀抗氧化, 不脱落, 不掉色特点
主要成分 Zr
成型工艺 熔炼
密度 ≥6.5g/cm3
纯度 3N

SiO2颗粒

应用领域 广泛用于光学镜头、光学镜片
主要成分 SiO2
成型工艺 熔炼
密度 ≥2.2g/cm3
纯度 4N
ITO蓝色粉末
ITO黄色粉末
AZO粉末
ATO粉末

众力拥有先进的靶材和背板金属化及绑定技术，可为客户提供绑定服务,
帮助客户达到最佳溅射效果。

旋转靶绑定

平面靶绑定

无初始粘性，热熔+UV固化，方便排泡和返工。